수성 청소란?

수성 청소란?

수성 세척은 전자 어셈블리에서 잔여물을 제거하기 위해 수성 세척 매체를 사용하는 종합적인 세척 프로세스입니다. 이 다단계 공정에는 인쇄 회로 기판의 청결과 신뢰성을 보장하기 위한 세척과 건조가 포함됩니다.

수성 세척 공정의 성공 여부는 다양한 변수와 매개변수에 따라 달라집니다. 세척 단계에서는 잔여물의 화학적 조성, 세척 매체의 용해성, 잔여물을 제거하고 헹구는 데 사용되는 물의 기계적 에너지, 잔여물에 대한 세척 매체의 노출 시간, 잔여물의 분해를 가속화하기 위한 세척 매체의 온도 상승 등의 요인이 모두 중요한 역할을 합니다.

세척 매체 및 기계 구성의 선택은 제거할 잔여물의 특정 유형에 따라 달라집니다. 수용성 잔여물의 경우 물로만 세척하는 것으로 충분할 수 있습니다. 그러나 세척 과정을 돕기 위해 세척 약품이 필요한 경우에는 세척 약품을 사용하는 기계가 필요합니다.

수성 세척에는 소량 및 다량 혼합 애플리케이션을 위한 배치 프로세스와 인라인 프로세스, 특히 깨끗하고 건조한 전자 어셈블리를 제공하는 데 다목적이며 일반적으로 사용되는 스프레이 인 에어 인라인 프로세스를 포함하여 다양한 장비 구성을 사용할 수 있습니다. 초음파 배치, 증기 탈지, 반수성 및 원심 분리 시스템과 같이 덜 일반적인 다른 기술도 특정 애플리케이션에 적합할 수 있습니다.

사전 세척 단계는 수성 세척 공정의 중요한 구성 요소입니다. 여기에는 어셈블리를 미리 적시고 세척 프로세스를 시작하는 작업이 포함됩니다. 사전 세척 모듈은 일반적으로 플러딩 스타일 노즐이 있는 상부 및 하부 스프레이 매니폴드로 구성됩니다. 수용성 공정에서 사전 세척 모듈은 노출된 표면 플럭스의 대부분을 제거하도록 설계되어 있으며, 폐수는 세척 탱크로 되돌아가지 않고 기계 밖으로 배출됩니다.